半導體

半導體元件和器件的制造涉及五大工藝流程：光刻、化學氣相沉積（CVD）、蝕刻、注入和擴散。Bronkhorst為半導體行業提供高精度質量流量計、質量流量控制器、蒸發器等解決方案助您優化每一步。

隨著產品不斷向更小、更強大、更便捷的方向發展，半導體行業持續面臨新的挑戰。超薄層、更小的關鍵尺寸、新材料、3D結構以及對更高產量和生產率的持續需求，都推動對更緊密工藝自動化的需求。精確的測量和控制助您實現目標。

半導體市場的流量控制

在半導體行業，精度與支持相輔相成。Bronkhorst將精進的流體技術與全方位服務專業知識相結合，助您實現一致且高質量的成果。

應用案例

在用于LED制造的金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）工藝中，Bronkhorst金屬密封質量流量控制器可實現對載氣的精確控制。Bronkhorst不僅提供流量控制器，還提供從校準到現場咨詢的全方位服務支持，竭誠服務客戶。

在前開式晶圓傳送盒（FOUP）吹掃過程中采用Bronkhorst質量流量控制器，制造商可確保清潔度、降低污染風險并優化運營效率，滿足當今半導體行業的高要求。

超臨界流體工藝需要超越傳統方法的測量技術。使用科里奧利質量流量計，您可實現穩定且精確的流量控制。即使在使用超臨界流體時，物理條件快速變化，也能保持穩定。

Bronkhorst專注于優化流體控制技術。我們的儀表具有高精度，這對于化學氣相沉積（CVD）、平板顯示器（FPD）的噴涂以及原子層沉積（ALD）工藝相當重要。此外，Bronkhorst金屬密封流量儀表可助您優化直接液體注入系統。

歐洲工藝，品質保證。Bronkhorst流量儀表在歐洲設計和制造，優質、可靠、符合行業標準。適合半導體工藝的需求。

我們在全球設有辦事處并與合作伙伴攜手，將全球覆蓋與本地專業知識相結合。我們能為您提供針對您所在地區的定制化支持。

我們的工程師經驗豐富，在流體測量和控制工藝方面擁有數十年的經驗。他們了解您面臨的挑戰，與您密切合作，優化您的系統，實現精確且可重復的結果。